当前位置:首页 > 新闻动态
材料领域先进制样技术研讨会【苏州站】,邀您共襄盛举!🎉亲爱的各位电镜专家们,您是否对电镜制样技术的最新进展充满好奇?是否渴望与业界同僚面对面交流心得?那么,这场研讨会您绝对不能错过!🔬电镜制样技术,开启材料检测新篇章电镜制样技术,作为材料检测的“火眼金睛”,其重要性日益凸显。本次研讨会,我们将深入探讨精密定点加工技术在电子半导体、高分子、新能源等领域的创...
12-6
液体导电胶主要由树脂基体、导电粒子和分散添加剂、助剂等组成。目前市场上使用的导电胶大都是填料型。导电胶要求导电粒子本身要有良好的导电性能粒径要在合适的范围内,能够添加到导电胶基体中形成导电通路。导电填料可以是金、银、铜、铝、锌、铁、镍的粉末和石墨及一些导电化合物。对于导电胶的选择依据我们主要看这几点:1.屏蔽效能各种需要进行导电胶点胶加工的产品的不同的性能,就需要考虑到导电胶的技术参数。2.导电胶固化后的硬度构件在装配后,导电胶在高度方向上需要有30%-50%的压缩,才能达到...
11-5
真空镀膜仪是一款多功能型真空镀膜系统设备,用于制备超薄、细颗粒的导电金属膜和碳膜,以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。全自动台式镀膜仪包含内置式无油真空系统石英膜厚监控系统和马达驱动样品台。真空镀膜仪的溅镀一般是指磁控溅镀,归于高速低温溅镀法。该技能请求真空度在1×10-3Torr摆布,即1.3×10-3Pa的真空状况充入慵懒气体氩气(Ar),并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,因为辉光放电发生的电子激起慵懒气体,发生等离子体,等离...
10-12
离子切割仪可以灵活选择多种样品台,不仅适用于高通量实验,也适合于特定制样需求实验室。离子切割配合不同的工作气体可以切割各种氧气切割难以切割的金属,尤其是对于有色金属(不锈钢、铝、铜、钛、镍)切割效果更佳。其主要优点在于切割厚度不大的金属的时候,离子切割速度快,尤其在切割普通碳素钢薄板时,速度可达氧切割法的5-6倍、切割面光洁、热变形小、较少的热影响区。离子切割的主要切割规范简述如下:1.空载电压和弧柱电压离子切割电源必须具有足够高的空载电压,才能容易引弧和使离子弧稳定燃烧。空...
9-7
扫描电镜样品台可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像,扫描电镜有较高的放大倍数且连续可调,是当今十分有用的科学研究仪器。对于它试验的样品来说有哪些要求呢?1.形态必须耐高真空如有些含水量很大的细胞,在真空中很快被抽干水分,细胞的形态也发生了改变,无法对各类型细胞进行区分。2.样品表面不能含有有机油脂类污染物油污在电子束作用下易分解成碳氢化物,对真空环境造成极大污染。样品表面细节被碳氢化合物遮盖;碳氢化合物降低了成像信号产量;碳氢化合物吸附在电子束光路引起极大象散;碳氢化...
8-6
镀膜仪是目前镀膜行业应用广泛的真空设备,随着行业的发展,各种类型的镀膜仪也在逐渐出现。但大部分人并不了解镀膜仪的工作原理。镀膜仪主要是由真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成。真空设备也分好多类型和型号,种类、用途不一样,其型号也就不一样,但它们的工作原理是相通和类似的。镀膜仪的基本技术要求说明:1.设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T的规定。2.在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电...
7-9
离子研磨设备是一种用于材料科学领域的仪器,可用于SEM、EPMA和SAM的样品制备,它可以制备软的、硬的和复合材料的样品,损伤、污染和变形可以控制得非常小。依靠离子束轰击制备样品剖面,观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料。离子研磨设备可一步制备出镜面样品。它几乎可以适用于各种材料,包括难以抛光的软材料,如铜、铝、金、焊料和聚合物等;以及难以切割的材料,如陶瓷和玻璃等。配套的高级CCD显微镜,可以准确地把样品定位在几个微米大小的剖面位置上。制备过程中,自动控制样品摇摆,以避免...
6-8
真空镀膜仪通过连续监控在线生产来保证镀膜产品的优良性,提高车间生产线上的工作效率。镀膜仪的种类多样主要分为:蒸发真空镀膜设备系列、离子真空镀膜仪系列、磁控溅射真空镀膜设备。由于真空镀膜仪的应用非常的广泛,目前已经渗透到车辆、土木建筑工程、机械、包装、环境保护、医药及医疗器械、石油、化工、食品、光学、电气、电子、原子能、半导体、航空航天、低温、专用机械、纺织、造纸、农业以及民用工业等工业部门和科学研究工作中。真空镀膜仪的应用是很复杂的,用户需求掌握必定的操作常识,我们来一起学习...